商品名稱:SU5000 熱場式場發射掃描電鏡
產品特點
高性能電子光學系統
二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)*
高靈敏度: 高效PD-BSD, 超強的低加速電壓性能,低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于高效微區分析
性能優異
壓力可變: 具有優異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測器(UVD)*
開倉室快速簡單換樣(最大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區分析: EDS, WDS, EBSD等等
規格
項目 | 內容 | |
分辨率 | 1.2 nm @ 30 kV | |
3.0 nm @ 1 kV | ||
2.0 nm @ 1 kV 減速模式*1 | ||
3.0 nm @ 15 kV 低真空模式*2 | ||
放大倍率 | 10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) | |
30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素) | ||
電子光學系統 | 電子槍 | ZrO /W 肖特基式電子槍 |
加速電壓 | 0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進) | |
著陸電壓 | 減速模式: 0.1 - 2.0 kV *1 | |
最大束流 | > 200 nA | |
探測器 | 低位二次電子探測器 | |
低真空模式*2 | 真空范圍: 10 - 300 Pa | |
馬達臺 | 馬達臺控制 | 5 - 軸自動 (優中心) |
可動范圍 | X:0~100mm | |
Y:0~50mm | ||
Z:3~65mm | ||
T:-20~90° | ||
R:360° | ||
最大樣品尺寸 | 最大直徑: 200 mm | |
最大高度: 80 mm | ||
選配探測器 | 高分辨率頂位二次電子探測器*1 | |
高靈敏度低真空探測器 (UVD) | ||
5分割半導體探測器 (PD-BSD)*3 | ||
能譜儀 (EDS) | ||
波譜儀 (WDS) | ||
背散射電子衍射探測器 (EBSD) | ||
*1:減速功能(包含高分辨率頂位二次電子探測器) | ||
*2:低真空功能(包含5分割半導體探測器) | ||
*3:空壓機(本地采購) |
化繁就簡 集成方案
售后無憂 服務周到
品類齊全 質量優先
專業選型 技術支持
周一至周日8:00-18:00
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